Technologie d’impression appliquée dans le domaine du génie électronique
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Le processus de moulage de haute précision appliqué dans le domaine de l’ingénierie électronique principalement utilise la méthode de photolithographie dans l’industrie de la production réelle.
Le tableau 1 donne la largeur de ligne minimale des éléments issus du génie électronique et des composants optiques qui ont été commercialisés. Du point de vue des méthodes de traitement de la production de masse, le modèle de photomask doit être photolitographie plaqué à cause de son niveau de l’échelle du nanomètre, mais 10μ. La largeur de la ligne qui précède le masque du tube cathodique et le modèle de cartes de circuit imprimé sont actuellement fabriqués en série en utilisant un procédé de photolithographie. La raison est que cette méthode est très fiable.
Malgré cela, en raison de l’utilisation généralisée des composants optiques dans le domaine de l’ingénierie électronique et la nécessité de réduire davantage les coûts, traitement est remplacé par d’autres processus tels que l’impression jet d’encre et électrophotographie.
C’est en raison de contraintes d’espace et peut présenter seulement brièvement le haut niveau de précision qui peut être obtenu par le procédé d’impression et quelques exemples de sa production et son application.
Divers moyens d’impression
Méthodes d’impression pour l’impression des textes et des images sur du papier ou de film sont divisés en secours, lithographie, gravure et pochoir selon la forme de la mise en page, selon l’utilisation. Ces techniques d’impression générales communes ont évolué de l’analogique au numérique et ensuite connecté au réseau pour changer d’apparence.
Ici, nous allons mettre l’accent sur la force de la technologie d’impression haute précision et son application en génie électronique pour analyser l’état actuel de l’impression offset (lithographie) et écran (trou de la plaque) (voir tableau 2). En général, on peut considérer que la viscosité de l’encre est relativement élevée et l’épaisseur de la pellicule de reproduction est relativement mince, et la reproductibilité de la fine ligne semble être mieux.
Comme exemple de l’impression offset plus populaire, magazines étrangers ont utilisé le boîtier 700-impression sur la couverture du magazine hebdomadaire de couleur. Généralement imprimé avec 175 lignes et soudain décidé de 700 lignes permet d’imprimer, les performances des pièces fines augmentera bien entendu. Une image qui est invisible à le œil nu sont clairement reconnaissables par une loupe. Parce que c’est un point, même si la largeur de la ligne fine est difficile à exprimer, il peut encore montrer un certain degré de 20μ. Cependant, c’est juste une illustration de l’image imprimée. Quand il s’agit de la reproduction du modèle d’applications d’ingénierie électroniques, les exigences sont beaucoup plus strictes. Ceci est principalement dû au manque d’épaisseur du film d’encre.
En outre, à titre d’exemple d’héliogravure, pour le beau texte et la fine trame imprimé sur la lutte contre la contrefaçon des stocks, titres, etc., si vous regardez cette partie de l’image avec une loupe, vous pouvez voir la reproduction de 10 ~ 20μ lignes fines. . En général, héliogravure est avantageux pour les applications d’ingénierie électroniques, car il peut augmenter l’épaisseur du film d’encre par rapport à l’impression offset.
Impression des miroirs émail LCD avec impression offset hélio
Voici un exemple d’impression d’un miroir d’émail LCD avec impression offset hélio. Après que l’encre est appliquée à la gravure sur plaque, après transfert sur la couverture de silicium, de la méthode d’impression la totalité sur le substrat de verre (voir Figure 1). Au moment de la production de masse, selon la taille de la conception, la largeur de la ligne imprimée était de 40 à 50 μ couleur miroir est sur le marché. Toutefois, le problème reste la planéité de la surface du modèle.
Comme un procédé d’amélioration de planéité, une méthode d’impression flip a été développée. Ceci est fait en premier appliquant l’encre directement sur la couverture, enlever la portion non désirée avec un relief négatif et enfin la transférer sur une plaque de verre clair. La platitude du modèle est entièrement tributaire de l’uniformité et la finesse de la couche d’encre appliquée à la couverture. Par conséquent, on peut dire que cette méthode est plus facile de contrôler la planéité de la méthode d’impression offset hélio.