Pas de traitement CTP (3)
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Problème technique de développement de type CTP sans imprimer sur une machine à imprimer
Comme déjà mentionné ci-dessus, la deuxième génération de plaques CTP non traitées s'attend à ce que le système ouvert de l'imageur thermique existant puisse être utilisé de la même manière que la plaque CTP développée. De la seconde moitié de 2005 à 2006, Fuji et Kodak ont produit des plaques CTP non traitées (ECO & FREE SYSTEM ET-S, ci-après dénommées ET-S) et Thermal Digital, mais elles faisaient toutes partie de la presse. La plaque de type négatif du mode de développement est devenue le courant dominant du CTP sans développement de la presse à imprimer. Ce qui suit se concentre sur ET-S.
ET-S a commencé avec les quatre points énumérés dans le tableau 3 comme objectif principal:
Principale politique de conception des objectifs
Pas de traitement, développement à bord 1. Mise en œuvre du développement sur une machine à décaper
Excellentes performances d'impression (aptitude à l'impression, hydrophilie de l'aluminium) 2. Traitement des déchets de développement
Haute performance avec une machine d'imagerie thermique Polymérisation thermique à grande vitesse (sensibilité élevée) 3. Conception à sensibilité élevée
Clarté de l'image après exposition Réaction de formation d'une image visible introduite 4. Coexistence d'une coloration à contraste élevé et d'une formation d'image imprimée
En tant que politique de conception de base, la méthode de développement sur presse repose sur l'utilisation d'un système de polymérisation thermique à grande vitesse permettant d'obtenir la même imprimabilité et la même sensibilité que la plaque CTP de type développement. Dans le même temps, la netteté de l'image après l'exposition, c'est-à-dire pour le plateau, introduit une réaction de formation d'image visible. Au moment de l’application pratique, les sujets principaux de la préparation de commandes sont la réalisation du développement sur la machine à éplucher, le traitement des déchets après le développement sur la machine à imprimer, la conception de la couche photosensible à haute sensibilité, la coexistence des formation d'image visible et formation de l'image imprimée.
Technologie principale de la plaque CTP non traitée ET-S
1. Stripping Développement sur machine
Afin de réaliser le développement sur presse, si la conception fonctionnelle est réalisée en présence du sirop, de l'encre et du laminage, elle est toujours dans l'environnement de développement pendant le processus d'impression. Si la couche photosensible est conçue pour être dissoute dans un sirop, le développement est facile, mais sa résistance à la résistance en Inde n'est pas garantie, mais elle contamine également la solution de mouillage, ce qui affecte les performances d'impression. Par conséquent, il est nécessaire d'éliminer un film hydrophobe insoluble dans l'eau médicinale en présence d'un sirop, d'une encre et d'un rouleau. Le profil de développement représenté sur la figure 1, c’est-à-dire la formation de cloques dans la couche photosensible due à la pénétration du sirop, la formation d’un film d’eau réduisant l’adhérence à l’interface due à la pression du rouleau et le mécanisme du processus de pelage dû à la viscosité de l'encre. Le processus est un indicateur et la conception de la couche photosensible et de l'interface d'impression de couche photosensible est mise en œuvre. En ce qui concerne la partie image, la pénétration du sirop est gênée par le durcissement de la couche photosensible et elle ne se développe pas même lorsqu'elle est exposée à l'environnement de développement pendant le processus d'impression.
2. Conception à haute sensibilité
Dans le cas du CTP non traité classique, la méthode de rinçage ou d’utilisation du thermofusible est la règle, mais la sensibilité est très faible, car la sensibilité pratique est d’environ 300 mJ / cm2. Dans le procédé de polymérisation d'image à haute sensibilité combiné au développement à bord, une plaque CTP thermique d'un système de polymérisation thermosensible à grande vitesse a été utilisée dans l'industrie de la presse (voir Fig. 2). De plus, afin de s’adapter au matériau de la plaque de CTP non traité, la construction technique suivante a été adoptée.
Dans le passé, pour supprimer l'inhibition de la polymérisation par l'oxygène afin de supprimer l'inhibition de la polymérisation par un matériau photosensible à base de polymérisation, une couche supérieure ayant une propriété de barrière à l'oxygène de 2 µm d'épaisseur est fournie. Toutefois, afin de coexister avec la vitesse de développement sur la machine, il est nécessaire de modifier l’épaisseur de film de la couche la plus élevée à 0,20 µm ou moins de 1/10. Les particules en forme de plaque d'épaisseur élevée sont ajoutées à la couche appauvrissant en oxygène et l'oxygénation souhaitée est obtenue par la couche extrêmement mince en fonction de l'imperméabilité aux gaz provoquée par la longue distance.
En raison de ce qui précède, la sensibilité pratique était de 100 mJ / cm et la sensibilité de la plaque de CTP non traitée conventionnelle était environ trois fois plus grande, et la même sensibilité et la même productivité que celles de la plaque de CTP développée, qui posait problème de nombreuses années ont été achevées. De plus, il peut correspondre à l'écran FM de 20 µm et permet d'obtenir de bonnes performances en termes de résolution.